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簡要描述:旋轉(zhuǎn)式共聚焦顯微鏡高速轉(zhuǎn)盤式共聚焦,快速的三維成像, 50微米針孔適于高NA物鏡, 光損傷 遠(yuǎn)低于點(diǎn)掃描的
品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
CSU-X1 高速
•高速轉(zhuǎn)盤式共聚焦,快速的三維成像
• 50微米針孔適于高NA物鏡
• 光損傷 遠(yuǎn)低于點(diǎn)掃描的
• 優(yōu)化隔行或EMCCD相機(jī)
• 可使用1或2個(gè)相機(jī)
• 支持disk-bypass模式的寬場(chǎng)成像
CSU-W1 深入清晰
• 提高針孔間距,較少串?dāng)_和深層組織成像
• 50微米和25微米的針孔,即適用高NA也適用低NA物鏡
• 大視野查看范圍的sCMOS和1k EMCCD相機(jī)
• 可同時(shí)兩個(gè)相機(jī)成像或2通道拆分視圖成像
• 雙盤設(shè)計(jì)包括disk-bypass模式的寬場(chǎng)成像
• 可近遠(yuǎn)紅外激發(fā)到785nm
CSU-X1 | CSU-W1 | |
針孔直徑 | 50μm盤 | 25μm盤和50μm盤 |
盤數(shù) | 1 | 1或者2個(gè)電動(dòng)切換 |
Disk Bypass | 3i Bypass™ | 標(biāo)準(zhǔn) |
采集速度 | 200FPS | 200FPS |
視野范圍 | 10mm x7mm | 17mm x16mm |
近紅外激發(fā) | 達(dá)到640nm | 達(dá)到785nm |